摩方精密

以面投影微立体光刻技术为核心，把光学投影与精密运动平台结合，实现微米级特征的高精度大幅面打印，最小特征可达数微米量级。设备用于精密连接器、微流控芯片、医疗器械微结构、齿科贴面与光学器件模具等场景，配套自研树脂与工艺参数。公司以极限精度而非成型速度作为差异化，服务精密制造与科研客户，属于微纳增材方向的代表企业。公司以面投影微立体光刻技术见长，打印精度可达微米级，用于精密器件、微流控芯片与医疗器械结构，配套专用材料与工艺服务。

公司在设备上采用面投影与高精度运动平台，可打印微米级结构，适合精密器件与微流控的小批制作。公司在精密结构件的打印上可达到微米级公差，适合光学器件、微针与微流控芯片的小批制造。在具体项目中，公司在交付节点上有明确安排，可按客户节奏分批完成，适合对交期较敏感的项目，可按客户情况调整。